Xiuh Consulting

Cart

Protected with:


Publicación: Mejora en método de medición del SPV, por Omar García Vera

El método de foto-fotaje superficial obtuvo una mejora. La investigación Extraction of source functions of surface photovoltage transients at very short times fue publicada recientemente. Está basada en el trabajo de Tesis de Omar García Vera.

Dicha investigación trata del método para obtener la función origen de materiales fotoactivos usando la espectroscopia de voltaje superficial. La investigación se llevó a cabo en el Helmholtz Zentrum Berlin Institut Silizium Photovoltaik.

“Utiliza un algoritmo evolutivo y un modelo matemático que describe la interacción natural de los equipos sobre la respuesta del material fotoactivo, para obtener la señal origen libre de interferencias.”

SPV es un método de medición utilizado en todo el mundo. Cuando se combina con este nuevo método, ahora tienes el mejor proceso de SPV del mundo.

Permite medir en el rango de los nanosegundos, y si el laser es más veloz, se podría llevar hasta los picosegundos, obteniendo más información del material.

Cuando la respuesta del material ocurre en el rango de los nanosegundos o menor, los componentes electrónicos oscilan generando ruido en la medición y previenen la obtención de información de valor sobre el material en ese rango de tiempo. Si se remueve la excitación del método de medición, solamente queda la respuesta real del material y se puede investigar información del material en tiempos más cortos.

Éste método se puede utilizar en cualquier material fotoactivo. Abre la posibilidad de estudiarlos en tiempos muy cortos para encontrar defectos y áreas potenciales de mejora.

Si te interesa el tema, te invitamos a descargar la publicación aquí.

Autores: Th. Dittrich, O. Garcia Vera, S. Fengler, S. Pineda, and S. Bönisch

ABSTRACT:

The measurement of surface photovoltage (SPV) transients over 12 orders of magnitude in time was recently demonstrated [Rev. Sci. Instrum. 88, 053904 (2017)]. In dedicated experiments, however, a high-impedance buffer shall be placed outside the measurement chamber, which has consequences for SPV measurements at very short times.

Published under license by AIP Publishing. https://doi.org/10.1063/1.5068749